Фотарэфракцыйны эфект з'яўляецца асновай галаграфічных аптычных прыкладанняў, але ён таксама прыносіць праблемы іншым аптычным прылажэнням, таму паляпшэнню фотапраламляльнай устойлівасці крышталя ніобата літыя надавалася вялікая ўвага, сярод якіх рэгуляванне допінгу з'яўляецца найбольш важным метадам.У адрозненне ад фотарэфракцыйнага легіравання, антыфотарэфракцыйны легіраванне выкарыстоўвае элементы з нязменнай валентнасцю для памяншэння фотарэфракцыйнага цэнтра.У 1980 годзе было паведамлена, што ўстойлівасць да фотарэфракцыі крышталя LN, легаванага магніем, павялічваецца больш чым на 2 парадкі, што прыцягнула вялікую ўвагу.У 1990 годзе даследчыкі выявілі, што ЛН, легіраваныя цынкам, валодае высокай фоторефракционной ўстойлівасцю, падобнай з ЛН з легіраванай магніем.Некалькі гадоў праз ЛН, легіраваны скандыем і індый, таксама валодаюць фотарэфракцыйнай устойлівасцю.

У 2000 г. Xu et al.выявіў, што высокасуадносіны Mг-легіраваныLNкрышталь з высокім устойлівасцю да фотапраламлення ў бачнай паласе гаsвыдатныя фотарэфракцыйныя характарыстыкі ў УФ-дыяпазоне.Гэта адкрыццё прарвала разуменне стнафотарэфракцыйны супраціўLNкрышталем, а таксама запоўнілі нарыхтоўку фотарэфракцыйнымі матэрыяламі, нанесенымі ў ультрафіялетавай паласе.Меншая даўжыня хвалі азначае, што памер галаграфічнай рашоткі можа быць меншым і больш тонкім, дынамічна сцірацца і запісвацца ў рашотцы ультрафіялетавым святлом і счытвацца чырвоным і зялёным святлом, каб рэалізаваць прымяненне дынамічнай галаграфічнай оптыкі. .Ламарк і інш.прыняў вышкаэфіцыент Мг-легіраваныLN крышталь, прадастаўлены Нанкайскім універсітэтам у якасці УФ-фотарэфракцыйнагаматэрыялі рэалізавала праграмуемую двухмерную лазерную маркіроўку з дапамогай двуххвалёвага ўзмацнення святла.

На ранняй стадыі антыфотарэфракцыйныя допінг-элементы ўключалі двухвалентныя і трохвалентныя элементы, такія як магній, цынк, індый і скандый.У 2009 г. Kong et al.распрацаваны антыфотарэфракцыйны допінг з выкарыстаннем тэтрaвалентныя элементы, такія як гафній, цырконій і волава.Пры дасягненні аднолькавай фоторефракционной ўстойлівасці ў параўнанні з двухвалентнымі і трохвалентнымі легіраванымі элементамі колькасць легіравання чатырохвалентных элементаў менш, напрыклад, 4,0 моль% гафнію і 6,0 моль% магнію, легаванагаLNкрышталі маюць сimіларфотарэфракцыйнае супраціў,20,0 моль% цырконію і 6.5 моль% легаванага магніюLNкрышталі маюць сimіларфотарэфракцыйнае супраціў.Больш за тое, каэфіцыент сегрэгацыі гафнію, цырконію і волава ў ніобата літыя бліжэй да 1, што больш спрыяльна для атрымання высакаякасных крышталяў.

Высакаякасны LN, распрацаваны WISOPTIC [www.wisoptic.com]